膜厚测试仪


膜厚测试仪

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膜厚测试仪膜厚测试仪 , 分为手持式和台式二种 , 手持式又有磁感应镀层测厚仪 , 电涡流镀层测厚仪 , 萤光X射线仪镀层测厚仪 。手持式的磁感应原理时 , 利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小 , 来测定覆层厚度 。也可以测定与之对应的磁阻的大小 , 来表示其覆层厚度 。
【膜厚测试仪】台式的萤光X射线膜厚测试仪 , 是通过一次X射线穿透金属元素样品时·产生低能量的光子 , 俗称为二次萤光 , ,在通过计算二次萤光的能量来计算厚度值 。
基本介绍中文名:膜厚测试仪
外文名:Film thickness tester
分类:手持式和台式
原理:磁感应原理
用途:测定覆层厚度
磁感应测量採用磁感应原理时 , 利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小 , 来测定覆层厚度 。也可以测定与之对应的磁阻的大小 , 来表示其覆层厚度 。覆层越厚 , 则磁阻越大 , 磁通越小 。利用磁感应原理的测厚仪 , 原则上可以有导磁基体上的非导磁覆层厚度 。一般要求基材导磁率在500以上 。如果覆层材料也有磁性 , 则要求与基材的导磁率之差足够大(如钢上镀镍) 。当软芯上绕着线圈的测头放在被测样本上时 , 仪器自动输出测试电流或测试信号 。早期的产品採用指针式表头 , 测量感应电动势的大小 , 仪器将该信号放大后来指示覆层厚度 。电路设计引入稳频、锁相、温度补偿等地新技术 , 利用磁阻来调製测量信号 。还採用专利设计的积体电路 , 引入微机 , 使测量精度和重现性有了大幅度的提高(几乎达一个数量级) 。现代的磁感应测厚仪 , 解析度达到0.1um , 允许误差达1% , 量程达10mm 。
膜厚测试仪

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膜厚测试仪磁性原理测厚仪可套用来精确测量钢铁表面的油漆层 , 瓷、搪瓷防护层 , 塑胶、橡胶覆层 , 包括镍铬在内的各种有色金属电镀层 , 以及化工石油待业的各种防腐涂层 。电涡流测量高频交流信号在测头线圈中产生电磁场 , 测头靠近导体时 , 就在其中形成涡流 。测头离导电基体愈近 , 则涡流愈大 , 反射阻抗也愈大 。这个反馈作用量表征了测头与导电基体之间距离的大小 , 也就是导电基体上非导电覆层厚度的大小 。由于这类测头专门测量非铁磁金属基材上的覆层厚度 , 所以通常称之为非磁性测头 。非磁性测头採用高频材料做线圈铁芯 , 例如铂镍合金或其它新材料 。与磁感应原理比较 , 主要区别是测头不同 , 信号的频率不同 , 信号的大小、标度关係不同 。与磁感应测厚仪一样 , 涡流测厚仪也达到了解析度0.1um , 允许误差1% , 量程10mm的高水平 。採用电涡流原理的测厚仪 , 原则上对所有导电体上的非导电体覆层均可测量 , 如航天航空器表面、车辆、家电、铝合金门窗及其它铝製品表面的漆 , 塑胶涂层及阳极氧化膜 。覆层材料有一定的导电性 , 通过校準同样也可测量 , 但要求两者的导电率之比至少相差3-5倍(如铜上镀铬) 。虽然钢铁基体亦为导电体 , 但这类任务还是採用磁性原理测量较为合适 。XRD简单地说萤光X射线装置(XRF)和X射线衍射装置(XRD)有何不同,萤光X射线装置(XRF)能得到某物质中的元素信息(物质构成,组成和镀层厚度),X射线衍射装置(XRD)能得到某物质中的结晶信息 。具体地说,比如用不同的装置测定食盐(氯化钠=NaCl)时,从萤光X射线装置得到的信息为此物质由钠(Na)和氯(Cl)构成,而从X射线衍射装置得到的信息为此物质由氯化钠(NaCl)的结晶构成 。单纯地看也许会认为能知道结晶状态的X射线衍射装置(XRD为好,但当测定含多种化合物的物质时只用衍射装置(XRD)就很难判定,必须先用萤光X射线装置(XRF)得到元素信息后才能进行定性 。XRFX射线的能量穿过金属镀层的同时 , 金属元素其电子会反射其稳定的能量波谱 。通过这样的原理 , 我们设计出:膜厚测试仪也可称为膜厚测量仪 , 又称金属涂镀层厚度测量仪 , 其不同之处为其即是薄膜厚度测试仪 , 也是薄膜表层金属元素分析仪 , 因回响全球环保工艺準则 , 故市场上最普遍使用的都是无损薄膜X射线萤光镀层测厚仪 。